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同步辐射（X-Ray）氮化硅薄膜窗口

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商品说明

氮化硅薄膜的优点：

  • 耐酸/碱性：样品可以在酸碱性条件下进行操作、研究。

  • 耐高温：薄膜可承受高达1000°C的温度

  • 无碳，易清洁

  • 大视野

  • 支持多种显微镜：例如 TEM、SEM、FIB、EDX、Auger、XPS 和 AFM/SPM

我们的产品优势：

  • 坚固的氮化硅薄膜，厚度为 10、20、30、50、100 和 200 nm

  • 标准规格：与标准3.05 mm TEM 支架完全兼容

  • 提供标准 200 µm 和更薄的 100 µm 框架厚度

  • 可根据需求提供亲水/疏水性的氮化硅薄膜

  • 洁净、极平的氮化硅膜

  • 具有高强度和平整度

  • 低应力


商品参数
售卖单位
10个/包

芯片尺寸
5 x 5 mm ，7.5 x 7.5 mm，10 x 10 mm
芯片厚度
200 μm
薄膜厚度
10 nm，20 nm，30 nm，50 nm，100 nm，200 nm
窗口大小
0.1  x 0.1，0.25 x 0.25，0.5 x 0.5，1 x 1，1.5 x 1.5，2 x 2，3 x 3，5 x 5 mm
窗口数量
1个
孔径大小
无孔
应力情况
＜250MPa


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